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产品名称:石墨烯纳微片改性芳纶研磨分散机

产品型号:GMD2000

产品报价:

产品特点:石墨烯纳微片改性芳纶研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

GMD2000石墨烯纳微片改性芳纶研磨分散机的详细资料:

一、产品关键词

石墨烯纳微片改性芳纶研磨分散机,石墨烯芳纶浆研磨分散机,德国进口研磨分散机,管线式研磨分散机,特制款双入口研磨分散机

二、研磨分散机的设计

SGN研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。

 

随着新能源汽车市场的发展,新能源汽车能走多远,zui终取决于动力电池,而隔膜是锂离子电池重要的组成部分,其性能决定了电池的界面结构、内阻等,直接影响电池的容量、循环性能和安全性能等特性。随着平板电脑和电动汽车的普及,传统聚烯烃隔膜的热收缩性能较差,无法满足动力电池高安全、高比能量密度的要求。除此之外,聚烯烃类隔膜天生的疏水性和低表面能使其不利于被极性电解液所润湿,同时,聚烯烃类隔膜低的孔隙率也将导致隔膜的吸液率较低,这些将严重影响电池的循环性能和倍率性能,限制其在高能量锂电池中的应用。因此,研发具有优异性能的新型隔膜已经成为锂离子电池,尤其是动力锂离子电池发展的已是当务之急。

三、芳纶的简介

芳香族聚酰胺(芳纶)是一种高强度、高模量、低密度和耐磨性好的有机合成材料,具有优异的耐高温性、良好的尺寸稳定性、高的力学性能及良好的防火性。针对现有隔膜性能的不足,现有技术中以芳纶纤维为载体的锂离子电池隔膜及其制备的技术。

四、研磨分散机的工艺

上海思峻的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

五、GMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

六、研磨分散机的结构

GMD2000石墨烯纳微片改性芳纶研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,GMD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

 

设备其它参数:

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、

电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

电机选配件: PTC 热保护、降噪型

研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷

研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理

进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍

研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

 

七、从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:

1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)

2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)

5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

 

线速度的计算:

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
SGN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。

 如果你对GMD2000石墨烯纳微片改性芳纶研磨分散机感兴趣,想了解更详细的产品信息,填写下表直接与厂家联系:

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